بررسی اثر میزان نرخ گاز اکسیژن در مخلوط گازی ar+o2جهت تهیه اکسید نقره به روش کندوپاش یونی

در سری اول لایه نشانی نمونه های اکسید نقره به مدت 2 ساعت و تحت جریان ma 20 برروی شیشه و سیلیکون در دماهای مختلف لایه نشانی شدند با انجام آنالیز پراش اشعه x در نمونه های سیلیکون فاز بلوری اکسید نقره مشاهده شد در صورتی که در نمونه های شیشه فاز بلوری اکسید نقره مشاهده نشد که برای دسترسی به فاز بلورین نمونه ها بازپخت شدند که پس از بازپخت فاز بلوری مشاهده گردیدکه با انجام آنالیز xps بر روی یکی از نمونه ها نشان دادیم که لایه اکسید نقره تشکیل شده ولی به صورت آمورف می باشد انجام آنالیز ft-ir نیز تایید کننده این مطلب است . مورفولوژی سطح و میزان زبری لایه ها با استفاده از آنالیز afm بررسی شد و مشاهده شد که با باز پخت نمودن و افزایش شار اکسیژن در حین بازپخت، دانه ها رشد یافته و بزرگتر می شوند و همچنین از زبری سطح کاسته می شود. جهت مطالعه خواص میکرو- نانو ساختاری لایه ها از میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem) استفاده شد. تصاویر sem وجود سطوح متخلخل با حفره های متعدد را نشان می دهد که با بازپخت نمودن لایه ها این حفرات پهن تر و با ادامه افزایش شار گاز اکسیژن از میزان پهن شدگی حفرات کاسته می شوبه منظور بررسی خواص نوری نمونه ها، آنالیز های uv-vis و بیضی سنجی (ellipsometry) انجام گرفت. با مقایسه طیف های حاصل از آنالیز uv-vis مشاهده شد که با بازپخت نمودن لایه ها از شفافیت آنها کاسته می شود و میزان جذب نور در لایه ها به حدود 95% می رسد. میزان بازتاب و عبور از این لایه ها بسیار ناچیز است.